19.03.2012

www.gupta-verlag.de/kautschuk

Neue Gummiprofilfertigungsanlage für Laboranwendungen

Laut Unternehmen eignet sie sich aufgrund des geringen Materialverbrauchs von lediglich 8 kg/h v. a. für Forschungsaufgaben und Mischungsentwicklungen, da sich mit ihr Prüfkörper und Dichtungsprofile mit einem Durchmesser kleiner als 1 cm2 herstellen lassen. Die Laboranlage ist auf die Herstellung von Einkomponentenprofilen ausgerichtet, sie biete einen hohen Grad an Verfahrensflexibilität und sei zugleich einfach zu bedienen, so KraussMaffei Berstorff. Durch den modularen Aufbau der Anlage lässt sie sich mit geringem zeitlichen Aufwand an unterschiedliche Aufgaben anpassen. Die Grundlage bildet ein Gummiextruder GE 25 x 18D für die kontinuierliche Ausformung des Materials, der mit einem beweglichen Bedienpanel für die Steuerung der Anlage ausgestattet ist. Die nachfolgende Vorvulkanisation des Profils erfolgt durch ein Schockmodul mit kurzwelligen Infrarotstrahlern.Bei der Entwicklung der neuen Vulkanisationseinheit habe man besonderen Wert auf einfache Handhabung und hohe Produktionssicherheit gelegt. Die kompakte Kombination von Mikrowellen- und Heißluftkanal basiert auf der Technologie der Produktionsanlagen und biete eine  Heißluftführung, die effektiv die Energie in das Produkt leitet, so das Unternehmen. Die leicht zu öffnenden Deckelklappen ermöglichen beim Anfahren der Anlage ein einfaches Einfädeln des Produkts und eine schnelle Reinigung des Prozessraums.

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